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(1)MOSFET的输入阻抗更加高于JFET。
(2)MOSFET对于静电放电(ESD)的抵抗能力较差,因此在MOSFET的输入端往往需要设置防止ESD破坏的二极管等元器件。
(3)JFET一般是耗尽型的器件,而MOSFET可以有增强型器件。因此,在使用时,JFET的栅极只能外加反向电压,对于正向的输入电压则不能正常工作。MOSFET由于既有耗尽型、也有增强型,则输入电压信号较大时也能够正常工作。
(4)JFET的噪声性能优于MOSFET。因为JFET的沟道是在体内,则不存在MOSFET那样的由于表面或界面所引起的1/f噪声。所以JFET的低频噪声很小。
场效应管(FieldEffectTransistor,简称FET)的工作原理主要基于电场效应。场效应管可以分为结型场效应管(JFET)和金属-氧化物半导体场效应管(MOSFET)。以下是两种场效应管的工作原理:结型场效应管(JFET)。它利用半导体表面的电场效应来控制导电沟道的形成。当栅极电压(VGS)增加时,半导体表面的多数载流子(通常是空穴)减少,耗尽层扩展,而电子积累在表面,形成导电沟道。当源漏电极之间加上电压(VDS)时,沟道中会有电流流过;金属-氧化物半导体场效应管(MOSFET)。MOSFET由一个金属层(通常是铝)制成的栅极和一个二氧化硅绝缘层隔离的源极和漏极组成。栅极电压控制着半导体表面电场的强度,进而影响沟道的导电能力。当VGS为零时,MOSFET处于截止状态,没有电流流过。当VGS增加到一定程度(超过阈值电压VT),半导体表面形成强反型层,导电沟道形成,允许电流流过。23场效应管具有高输入电阻、低功耗、高噪声抑制能力和大动态范围等优点,适用于各种电子电路中。
栅极结构场效应管(FET)是一个广泛的分类,而MOS管(MOSFET)是场效应管的一种特定类型。
两者的主要区别在于它们的栅极结构。场效应管FET包括多种类型,其中结型场效应管(JFET)的栅极是一个PN结,而MOS管(MOSFET)的栅极由金属(M)、氧化物(O)、半导体(S)三层结构组成,即栅极由二氧化硅绝缘层与沟道分离。这种结构赋予了MOSFET极高的输入阻抗(可达10^15Ω),以及低噪声、低电源电流和高放大倍数的优势MOSFET分为N沟道和P沟道两种,且根据导电方式的不同,又分为增强型和耗尽型。此外,场效应管(FET)还有一些其他类型,如V型槽MOS场效应管VMOS管,它是一种高效、功率开关器件,具有特定的V型槽结构。
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